原子層沉積（ALD）技術是一種先進的薄膜制備技術，其特點在于能夠在原子尺度上實現(xiàn)對薄膜成分厚度的精確控制。
新材料學院王新煒課題組一直致力于新型ALD方法的開發(fā)與研究。近些年來，該課題組開發(fā)了多種新材料的ALD工藝，如硫化鈷（Nano Letters (2015) 15, 6689）、硫化鎳（Chemistry of Materials (2016) 28, 1155）、氧化釩（Advanced Functional Materials (2016) 26, 4456）等，并將這些材料應用于能源器件和有機電子器件中，展示了所制得ALD材料的多種優(yōu)異性能。
近日，該課題組又開發(fā)了一種新型的硫化鐵材料的ALD工藝。該工藝所制得的ALD硫化鐵薄膜材料具有優(yōu)異的有機催化性能，可以有效地催化偶氮苯類化合物的加氫反應。該工作于近期在線發(fā)表在《應用化學（Angewandte Chemie）》(DOI: 10.1002/anie.201700449)。該論文的（共同）第一作者是新材料學院的博士后邵友東和2016級博士生國政。
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Youdong Shao#, Zheng Guo#, Hao Li, Yantao Su, and Xinwei Wang*, “Atomic Layer Deposition of Iron Sulfide and Its Application as a Catalyst in the Hydrogenation of Azobenzenes”, Angewandte Chemie International Edition Early View (2017). (#Equal contribution)
DOI: 10.1002/anie.201700449
