報告題目: High Power Impulse Magnetron Sputtering: Physics and Application
報告人: Prof. Ulf Helmersson
日期: 8月31日
時間: 10:30-11:30
地點: G棟三樓會議室
Ulf Helmersson教授簡介:
Ulf Helmersson教授目前供職于歐洲頂尖大學(xué)之一的瑞典林雪平大學(xué)（Link?ping University），同時擔(dān)任Ti? AB、Ionautics AB以及Plasm Advance AB等公司的董事或總裁職務(wù)，并于2008年評為AVS會士。其研究工作主要集中在等離子體的基礎(chǔ)研究及其應(yīng)用領(lǐng)域，尤其在離子沉積領(lǐng)域具有重要貢獻。Ulf Helmersson教授在真空鍍膜和納米材料制備上具備廣泛國際知名度，現(xiàn)在研究熱點高功率脈沖磁控濺射（HiPIMS）技術(shù)，就是有其課題組首次提出并發(fā)表，多年來，積累了豐富的經(jīng)驗和理解。迄今，發(fā)表學(xué)術(shù)論文200余篇篇，擁有多項已產(chǎn)業(yè)化專利技術(shù)。
